Construcción del ecosistema de máscaras de formato grande de 6x12 pulgadas de próxima generación
![Equipo ASML EXE 5000 de EUV de Alta NA ubicado en la planta Intel Fab 25 [Foto=Intel Korea]](https://image.ajunews.com/content/image/2026/09/08/20260908163733988388.jpg)
Intel Foundry y ASML han presentado los logros en la aplicación de producción en masa de la tecnología de litografía de próxima generación "EUV de Alta NA (Apertura Numérica)" y su hoja de ruta tecnológica futura.
Según la industria, Intel Foundry compartió recientemente su estado de colaboración a través de la conferencia "SPIE Photomask Technology + Extreme Ultraviolet Lithography de Próxima Generación", celebrada en Monterey, California.
La empresa ha aplicado esta tecnología en el procesamiento de más de 1 millón de obleas hasta la fecha, incluyendo la producción en masa de capas específicas del procesador de próxima generación "Panther Lake". Un portavoz de Intel Foundry explicó: "Hemos logrado resultados que cumplen con las expectativas en términos de precisión de superposición, rendimiento de procesamiento y disponibilidad operativa".
En particular, los productos fabricados mediante la introducción de Alta NA en el proceso Intel 18A demostraron un desempeño equivalente o superior al de los productos basados en la plataforma NXE de especificación 0,33 NA existente.
En el sistema de apoyo a los clientes, ambas compañías mantienen el estándar de máscaras de 6 pulgadas mientras aprovechan las ventajas de Alta NA, proporcionando soluciones de disposición por capas, tecnología de costura y kits de diseño de proceso.
Ambas organizaciones han liderado durante los últimos tres años la "iniciativa de formato de máscaras grandes" para integrar el ecosistema de máscaras, combinando el apoyo a corto plazo basado en máscaras de 6 pulgadas con la transición futura hacia el formato de máscaras grandes de 6x12 pulgadas.
Christoph Föckeler, consejero delegado de ASML, declaró: "Valoramos a Intel Foundry como líder clave en la adopción de Alta NA y reconocemos sus esfuerzos en estandarización e innovación de máscaras".
Naga Chandrasekaran, copresidente de Intel Foundry, añadió: "Continuaremos avanzando en el desarrollo de infraestructuras para la expansión del EUV de Alta NA mediante la colaboración con ASML y el ecosistema de la industria en general".
* Este artículo ha sido traducido por IA.