Tasa de nacionalización del 90%, potencia de salida EUV superior a 15W
Se prevé que se necesitarán de 3 a 5 años adicionales para la comercialización
![Sistema de fuente de luz EUV desarrollado por Langdao Suiyan [Foto=Langdao Suiyan]](https://image.ajunews.com/content/image/2026/10/15/20261015102638362990.png)
China ha presentado un prototipo del sistema de fuente de luz, componente crítico de los equipos de litografía de luz ultravioleta extrema (EUV) necesarios para la producción de semiconductores avanzados.
Langdao Suiyan (朗道燧岩), empresa desarrolladora de fuentes de luz para semiconductores, presentó por primera vez el prototipo del sistema de fuente de luz EUV en la 26.ª Exposición Internacional Industrial de China que se celebra en Shanghái desde el 12 de octubre, según informó el medio estatal chino Diario de Liberación el 15 de octubre. Un portavoz del evento explicó que la tasa de nacionalización del sistema es del 90% y que la mayoría de los componentes clave fueron desarrollados íntegramente por la empresa.
La fuente de luz EUV es una tecnología fundamental para la fabricación de semiconductores avanzados de 7 nanómetros (nm) o inferior. El sistema genera plasma disparando un láser de alta potencia contra gotitas de estaño, y aprovecha la luz ultravioleta extrema con una longitud de onda de 13,5 nm emitida en este proceso. La fuente de luz es un componente central de los equipos de litografía EUV. Además del sistema de fuente de luz, otros componentes críticos de los equipos de litografía EUV incluyen óptica de reflexión de precisión para recolectar luz, máscaras y sistemas de transporte y alineación de obleas.
El sistema de fuente de luz de Langdao Suiyan utiliza la tecnología de plasma generado por láser (LPP), la misma metodología empleada por el fabricante holandés ASML en sus equipos comerciales de litografía EUV. El sistema de fuente de bajo rendimiento ‘FlintNano LPP-OXXO’ presentado por la empresa tiene una potencia de salida EUV superior a 15W y un tiempo de funcionamiento continuo que supera las 100 horas. Por el contrario, los equipos comerciales de litografía EUV de ASML generalmente requieren fuentes de luz con potencias de salida de varios cientos de vatios. Es necesario aumentar la potencia de salida, la estabilidad a largo plazo y la tasa de funcionamiento para poder aplicar el sistema en entornos industriales.
Un portavoz presente en la exposición señaló que "se requerirán de 3 a 5 años adicionales para que este sistema de fuente de luz alcance la etapa de producción en masa". Los analistas consideran que esta presentación es significativa porque demuestra que China ha avanzado en la tecnología de fuentes de luz EUV desde la investigación teórica hacia la etapa de validación de prototipos.
Por su parte, Langdao Suiyan, fundada en 2024, es una empresa creada por el equipo de investigación del doctor Wang Hao basándose en los logros de investigación en plasma de descargas gaseosas de la Universidad Tsinghua. La empresa ha recibido inversión de empresas como Zhangjiang High-Tech y Zhongxin Juyuan.
* Este artículo ha sido traducido por IA.